發布時間:2026-02-26 人氣:143 來源:本站
半導體5nm制程過濾系統配置制程過濾系統配置
系統架構系統架構:
預過濾:Φ68mm PP濾芯,5μm精度,處理量500L/h
精過濾:Φ83mm PES濾芯,0.22μm精度,處理量200L/h
終端過濾:Φ68mm PFA濾芯,0.1μm精度,處理量50L/h
關鍵參數:
壓差控制:終端過濾壓差<0.03MPa,精過濾壓差<0.1MPa,預過濾壓差<0.05MPa
流量分配:遵循"流量與壓差平方根成正比"公式,確保各級濾芯在合理壓差范圍內工作
溫度要求:過濾液溫度控制在25-80℃,避免高溫加速濾材老化
泵選型泵選型:推薦CQB-F型氟塑料磁力泵,耐溫達90℃,適用強酸(如98%硫酸)和強堿(如50%
NaOH),流量0.8-25m3/h,揚程3-40m
密封要求:采用氟橡膠密封件,定期檢查更換,防止泄漏
材料選型依據:
終端過濾選用PFA濾芯,因其金屬離子析出率<0.1ppb,符合半導體超純液體標準
PES精過濾芯在pH全范圍內表現穩定,且內毒素水平低,適合藥液過濾
PP預過濾芯成本效益好,可有效攔截大顆粒,保護后續精密濾芯